環(huán)境試驗類產(chǎn)品技術協(xié)議
產(chǎn)品名稱：復合式鹽霧腐蝕試驗箱
1.設備型號規(guī)格與數(shù)量：
1.1 設備名稱：復合式鹽霧腐蝕試驗箱。
1.2 設備型號：FHL-90-NS
1.3 數(shù) 量：一臺。
2.設備特點及用途：
2.1. 試驗箱結構設計先進合理，配套產(chǎn)品和功能元器件具有國內(nèi)先進水平，能夠適應長期穩(wěn)定、**、可靠的試驗需求。且使用、操作、維修方便，使用壽命長，造型美觀，有良好的用戶界面，使用戶的操作和監(jiān)測都更加簡單和直觀。
2.2. 設備主要部件選用國際國內(nèi)知名品牌廠家的上等產(chǎn)品，確保整機質量性能。
3.執(zhí)行標準：
可按 GB/T10125－1997、ASTM B117-2002、BS7479：1991 進行中性鹽霧試驗（NSS）、醋酸鹽霧試驗（ASS）、銅加速醋酸鹽霧試驗（CASS），也可按 GM9540P 等標準進行循環(huán)腐蝕試驗。
3.1. GB/T10587-2006 鹽霧試驗箱技術條件。
3.2. GB/T10125－97 人造氣氛腐蝕試驗 鹽霧試驗。
3.3. GB 2423.17-93《電工電子產(chǎn)品基本環(huán)境試驗規(guī)程 試驗Ka：鹽霧試驗方法》。
3.4. GB 6460-86 金屬覆蓋層 銅加速醋酸鹽霧試驗（CASS）。
3.5. GB 6459-86 金屬覆蓋層 醋酸鹽霧試驗（ASS）。
3.6. GJB150、ASTM B117、ASTM B368、ASTM B380、ASTMD1735、ASTM D2247、ASTM G85 A1、 GM4465P、ISO9227、DIN 50021。
4.主要技術規(guī)格及參數(shù)：
4.1. 內(nèi)部尺寸：900mm x 600mm x500mm （W×H×D）。
4.2. 溫度范圍：樣品室：35℃～ +70℃可控，**度不低于±1℃。
飽和筒：+47℃～+63℃。
4.3. 溫度均勻度：≤2℃。
4.4. 溫度波動度：≤1.0℃。
4.5. 升降溫速率：1℃/M 試驗狀態(tài)轉換時間＜0.5H（以上指標均在常壓、空載條件情況下，距箱體內(nèi)壁 1/10 空間內(nèi)測試）。
4.6 濕度范圍：30%～98%R.H。
4.7 濕度偏差：75%R.H.以下 ±5%；75%R.H.以上 +2、-3% RH。
4.8 鹽霧沉降量：鹽霧沉降量從 0.5ml/h～3.5 ml/80cm2 h可調整，鹽霧噴霧均勻，樣品室內(nèi)鹽霧沉降量高低之差不大于 0.5ml/h。
4.9 噴霧方式：氣動式，連續(xù)、間斷噴霧可隨意。
4.10 **夾角 ：110～120°。
4.11 使用環(huán)境溫度：0 ～ 35℃。
4.12鹽霧標準：
做4小時鹽霧試驗，再在標準氣侯環(huán)境（包括冷卻）4個小時靜止狀態(tài)，16小時濕熱試驗
（40℃±3℃）濕度98%±2%，循環(huán)5次后再在靜止狀態(tài)中存放48小時。
5.試驗箱主要結構組成：
5.1 試驗室： 采用PP板，耐高、低溫，耐酸堿試驗室密封門.
5.2 鹽溶液補充槽：60，方便隨時補充鹽溶液。
5.3 飽 和 桶：采用SUS304上等不銹鋼板，耐高溫耐高壓性能好，提供與箱內(nèi)一致的濕空氣。
5.4 試驗室樣品架：V型支架、 0型懸掛支架均采用玻璃棒，具有耐腐蝕、耐承重，放置試件數(shù)量多并任意選擇15°、30°擺放試板。
5.5 加 熱 方 式：本系列試驗箱箱內(nèi)鹽霧試驗溫度采用箱體夾層內(nèi)部加熱絲加溫方式，箱體溫度更加均勻穩(wěn)定。
5.6 加 濕 系 統(tǒng)：由加濕桶的加濕管導入工作室在由工作室的風機進行均勻攪拌. 濕度采用干濕球溫度表示。
5.7 空氣調節(jié)系統(tǒng)：本系統(tǒng)由調節(jié)腔、干燥加熱器、蒸發(fā)器、加濕器擴展管、離心風機等組成， 目的是將在調節(jié)腔內(nèi)調節(jié)好的干溫、濕空氣經(jīng)過充分攪拌后，送入工作室內(nèi)， 進回風口，送回調節(jié)腔內(nèi)繼續(xù)循環(huán)，周而復始。
5.8 箱 蓋：具有足夠的強度和剛度，可觀察噴霧狀況。采用氣動撐桿開關箱蓋，方便自如。采用水密封結構,確保鹽霧不溢出。 箱蓋開啟自動保護，重新蓋上后自動從斷點處啟動循環(huán)腐蝕試驗 箱蓋采用 110o ～ 120o 夾角，確保冷凝水不滴落在試件上。
5.9 設有防止箱內(nèi)壓力升高的平衡排氣孔，排氣時不使工作空間氣流過分揣動。
5.10 設有刻度式分液漏斗，收集并能在箱外直觀鹽霧沉降量。
5.11 設有兩個噴霧塔，能更均勻、更快的滿足鹽霧沉降量需求。
6.供氣系統(tǒng)：
6.1 氣源由空氣壓縮機（客戶自備）產(chǎn)生的空氣供應，經(jīng)上等空氣凈化過濾，二級氣壓調整后 送入飽和桶內(nèi)。
6.2 本試驗箱設有兩個空氣調壓閥，當接入空氣壓縮機提供的氣壓時，進入氣體管路的**個調壓閥的壓力應調整至 0.2-0.4Mpa 之間。
6.3 進入噴嘴的**個調壓閥（即調節(jié)噴霧壓力的調節(jié)閥），壓力應調整至在 0.07—0.17MPa之間。
6.4 氣路系統(tǒng)：穩(wěn)定可靠的進口氣路元器件。
7.噴霧系統(tǒng)：噴咀可拆卸，方便清理
7.1 采用氣流式噴霧方式和利用虹吸原理，將吸取的鹽溶液經(jīng)噴嘴使其霧化，霧化粒度均勻， 可確保試驗進行的連續(xù)性、穩(wěn)定性。
7.2 采用無結晶噴嘴，檔板式噴霧裝置，經(jīng)擋板擴散后均勻而自由跌落在試驗箱內(nèi)，使鹽霧沉降量達到規(guī)定的值內(nèi)。
7.3 噴霧前的鹽水是經(jīng)過鹽水存儲箱桶注入預熱槽，進行預熱再導入噴嘴。使恒溫后的工作室 溫度波動性更加小。
7.4 鹽霧沉降量：可根據(jù)調節(jié)噴嘴壓力的大小 0.5--2.0 ml80cm2/ 1hr ( 16hr 平均量)，檔 板的￠調節(jié)角度來控制鹽霧沉降量，以便使鹽霧沉降量達到1-2ml/cm2·h。
7.5 噴霧壓力可以調整至 0.8～1.5MPa。
8. 制冷系統(tǒng)：
制冷系統(tǒng)的設計應用能量調節(jié)技術,既能保證制冷機組正常運
行,又能對制冷系統(tǒng)的能耗及制冷量進行有效的調節(jié)，使制冷系統(tǒng)保持在*佳的運行狀態(tài)。采用平衡調溫（BTHC）法,既在制冷系統(tǒng)在連續(xù)工作的情況下，控制系統(tǒng)根據(jù)設定之溫度點通過 PID 自動運算輸出的結果去控制加熱器的輸出量，*終達到一種動態(tài)平衡。
8.1.壓縮機：采用法國泰康單級全封閉壓縮機作為制冷系統(tǒng)動力源，確保設備試驗時的溫度變化速率和濕度試驗。
8.2.冷凝器：風冷冷凝器。
8.3.電磁閥：意大利卡士妥。
8.4.干燥過濾器：丹麥丹佛斯。
8.5.節(jié)流裝置：毛細管。
8.6.制冷劑：采用綠色環(huán)保制冷劑 R134 作為本制冷系統(tǒng)的制冷介質。
9.控制系統(tǒng)：
9.1 溫濕度控制器
●顯示器：5.7”320×240 點陣彩色液晶顯示。 運行方式：定值或程序。
●設定方式：中文菜單，觸摸屏人機交互接口方式輸入 程序容量：可儲存 120 組、1200 段試驗程序。
●程序長度：每組程序*多 99 段 循環(huán)次數(shù)：每個程序段可循環(huán)999 次。
●設定范圍：
△溫度： 35℃～+70℃，
△濕度：30～98%RH，
△時間：：0～99 小時 59 分鐘。
●分 辨 率：溫度：0.1℃，濕度：0.1%RH，時間：0.1min。
●輸 入：PT100 鉑電阻。
●其它功能：設備具有超溫，風機過熱、過流等多種報警保護功能，而控制器具備 的故障自診斷功能可保證一旦設備出現(xiàn)異常，將切斷主要部件的電源，同時發(fā)出報警信號。
9.2.測量數(shù)據(jù)采集：PT100 鉑電阻。
9.3.其它執(zhí)行器件：法國“施奈德”交流接觸器、開關、按鈕、日本富士小型繼電器等品牌產(chǎn)品。
9.4 加熱槽液體膨脹**溫度控制器 30-150℃。
9.5 飽和空氣桶液體膨脹**溫度控制器 30-150℃。
9.6 上等壓力精密調整: 含空氣濾清器。
9.7 壓力表:2.5kg/cm2 精密度 0.01kg/cm2 IK – 2.5。
10.**保護裝置：
10.1 低水位時自動切斷電源裝置
10.2 超溫自動斷電裝置
10.3 聲光報警報裝置
10.4 飽和桶超溫保護
10.5 鹽液低水位警示裝置
10.6 制冷壓縮機過熱報警
10.7 制冷壓縮機過電流報警
10.8 制冷壓縮機超電壓報警
10.9 純水水位標志及缺乏報警
11．附件：
11.1 量筒 2 只
11.2標準 80cm2 鹽霧收集裝置 2 套
11.3 無結晶玻璃噴嘴 1 支
11.4 濕球杯 1 只
11.5 快速排霧系統(tǒng) 1 組
11.6氯化鈉(NaCl)500g裝4 瓶
氫氧化鈉(NaOh)500g 裝 1 瓶
試紙 1 盒
藥匙 1 支
吸管 1 支
12.使用條件：
12.1 電源： 380V 50Hz（三相四線）：電壓允許波動范圍為 (380±38) V；頻率允許波 動范圍為（ 50±0.5)Hz。
12.2 使用環(huán)境：可允許使用溫度范圍：0℃ -30℃；性能保證范圍：+5℃～+20℃；相對濕度：≤90%RH。
12.3 氣源：0.4MPa。
12.4 場地：地而平整，通風良好；留有適當?shù)氖褂眉熬S護空間。
